发明名称 光电子半导体器件
摘要 本发明提出了一种光电子半导体器件,其具有基于氮化物半导体的半导体层序列(3),该半导体层序列包括n掺杂区域(4)、p掺杂区域(8)和设置在n掺杂区域(4)和p掺杂区域(8)之间的有源区(5)。p掺杂区域(8)包括In<sub>x</sub>Al<sub>y</sub>Ga<sub>1-x-y</sub>N构成的p接触层(7),其中0≤x≤1,0≤y≤1且x+y≤1。p接触层与金属、金属合金或者透明导电氧化物构成的连接层(9)邻接,其中p接触层(7)在朝着连接层(9)的界面上具有带Ga面取向的第一晶畴(1)以及带N面取向的第二晶畴(2)。
申请公布号 CN102187484B 申请公布日期 2014.08.06
申请号 CN200980141726.4 申请日期 2009.09.16
申请人 欧司朗光电半导体有限公司 发明人 马丁·斯特拉斯伯格;卢茨·赫佩尔;马蒂亚斯·彼得;乌尔里克·策恩德;泷哲也;安德烈亚斯·莱贝尔;赖纳·布滕戴奇;托马斯·鲍尔
分类号 H01L33/40(2006.01)I 主分类号 H01L33/40(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 王萍;周涛
主权项 一种光电子半导体器件,其具有基于氮化物半导体的半导体层序列(3),该半导体层序列包括n掺杂区域(4)、p掺杂区域(8)和设置在n掺杂区域(4)和p掺杂区域(8)之间的有源区(5),其中p掺杂区域(8)包括In<sub>x</sub>Al<sub>y</sub>Ga<sub>1‑x‑y</sub>N构成的p接触层(7),其中0≤x&lt;1,0≤y&lt;1且x+y&lt;1,该p接触层与金属、金属合金或者透明导电氧化物构成的连接层(9)邻接,其中p接触层(7)在朝着连接层(9)的界面上具有带Ga面取向的第一晶畴(1)以及带N面取向的第二晶畴(2)。
地址 德国雷根斯堡
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