发明名称 |
光电子半导体器件 |
摘要 |
本发明提出了一种光电子半导体器件,其具有基于氮化物半导体的半导体层序列(3),该半导体层序列包括n掺杂区域(4)、p掺杂区域(8)和设置在n掺杂区域(4)和p掺杂区域(8)之间的有源区(5)。p掺杂区域(8)包括In<sub>x</sub>Al<sub>y</sub>Ga<sub>1-x-y</sub>N构成的p接触层(7),其中0≤x≤1,0≤y≤1且x+y≤1。p接触层与金属、金属合金或者透明导电氧化物构成的连接层(9)邻接,其中p接触层(7)在朝着连接层(9)的界面上具有带Ga面取向的第一晶畴(1)以及带N面取向的第二晶畴(2)。 |
申请公布号 |
CN102187484B |
申请公布日期 |
2014.08.06 |
申请号 |
CN200980141726.4 |
申请日期 |
2009.09.16 |
申请人 |
欧司朗光电半导体有限公司 |
发明人 |
马丁·斯特拉斯伯格;卢茨·赫佩尔;马蒂亚斯·彼得;乌尔里克·策恩德;泷哲也;安德烈亚斯·莱贝尔;赖纳·布滕戴奇;托马斯·鲍尔 |
分类号 |
H01L33/40(2006.01)I |
主分类号 |
H01L33/40(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
王萍;周涛 |
主权项 |
一种光电子半导体器件,其具有基于氮化物半导体的半导体层序列(3),该半导体层序列包括n掺杂区域(4)、p掺杂区域(8)和设置在n掺杂区域(4)和p掺杂区域(8)之间的有源区(5),其中p掺杂区域(8)包括In<sub>x</sub>Al<sub>y</sub>Ga<sub>1‑x‑y</sub>N构成的p接触层(7),其中0≤x<1,0≤y<1且x+y<1,该p接触层与金属、金属合金或者透明导电氧化物构成的连接层(9)邻接,其中p接触层(7)在朝着连接层(9)的界面上具有带Ga面取向的第一晶畴(1)以及带N面取向的第二晶畴(2)。 |
地址 |
德国雷根斯堡 |