图案形成方法

摘要

[课题]提供一种图案形成方法,该图案形成方法系能够不造成图案倒毁且降低图案的粗糙度及提高图案光罩选择比,并能够不使用导引图案而形成微细图案。[解决手段]具有以下工程:在表面形成有蚀刻对象膜的基板上,形成曝光部份成为多孔质之图案形成材料膜的工程;对图案形成材料膜进行图案曝光,并对曝光部进行多孔质化的工程;在曝光部的空隙选择性地浸润填充种类并强化曝光部时,藉由乾蚀刻去除图案形成材料膜的非曝光部,并形成预定图案的工程。