| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten von Substraten in einer Prozesskammer (8) eines Reaktorgehäuses (1), mit einem Gaseinlassorgan (11) zum Einleiten von Prozessgasen in die Prozesskammer (8), mit einem Gasauslassorgan (10) zum Austritt eines Abgasstromes aus der Prozesskammer (8) in einen in einem Partikelabscheidergehäuse (3) angeordneten, ein poröses Filtermedium (19) aufweisenden Partikelfilter (4) zum Ausfiltern sich bei einer Reaktion der Prozessgase bildenden Partikel aus dem Abgasstrom. Um die Filterleistung eines Partikelfilters an einer CVD- oder PVD-Vorrichtung zu verbessern und einen für diesen Einsatzzweck geeigneten Partikelfilter anzugeben, schlägt die Erfindung vor, dass die Porengröße und die Oberflächenbeschaffenheit des Filtermediums (16) derart gewählt ist, dass im Abgasstrom sich befindende Partikel an der Oberfläche des Filtermediums (16) anhaften, jedoch nicht in das Filtermedium (16) eindringen und die Partikel außerhalb des Filtermediums (16) zu Konglomeraten anwachsen, wobei eine Massenbeschleunigungseinrichtung vorgesehen ist zum Reinigen des Partikelfilters (4) durch mechanisches Entfernen der Konglomerate.</p> |
