形成微电子结构的方法

摘要

本发明提供了一种形成微电子结构的方法，所述方法包括以下步骤：提供具有表面的基材；将组合物施涂在所述表面上，所述组合物包含：选自聚合物、低聚物或其混合物的化合物，所述化合物包含非酚基的酸基；乙烯基醚交联剂；和溶剂体系，所述化合物和交联剂溶解或分散在所述溶剂体系中，使所述组合物中的化合物交联，形成一层基本不溶于光刻胶溶剂中的组合物层，并且形成包含具有以下结构式的连接基团的交联化合物；在所述组合物上形成光刻胶层；使所述组合物曝光，形成所述组合物的曝光部分；使所述组合物与显影剂接触，以从所述表面除去所述曝光的部分。

主权项

一种形成微电子结构的方法,所述方法包括以下步骤：提供具有表面的基材;将一种组合物施涂在所述表面上,所述组合物包含：选自聚合物、低聚物及其混合物的配合物,所述配合物包含非酚基的酸基，并具有保护的酸基和未保护的酸基，所述保护的酸基和未保护的酸基的摩尔比为1:3‑3:1;乙烯基醚交联剂;和溶剂体系,所述配合物和交联剂溶解或分散在所述溶剂体系中,使所述组合物中的配合物交联，形成一层基本不溶于光刻胶溶剂中的组合物层，并且形成包含具有以下结构式的连接基团的交联化合物在所述组合物上施涂光刻胶层；使所述组合物曝光，形成所述组合物的曝光部分;使所述组合物与显影剂接触，以从所述表面除去所述曝光的部分。