发明名称 执行以模型为基础之扫描器调谐的方法
摘要 本发明揭示一种用于利用一参考微影系统来调谐一第一微影系统之以模型为基础之调谐方法,该两个微影系统中之每一者具有用于控制成像效能之可调谐参数。该方法包括以下步骤:界定一测试图案及一成像模型;利用该参考微影系统来成像该测试图案且量测成像结果;利用该第一微影系统来成像该测试图案且量测成像结果;对应于该参考微影系统而利用该等成像结果来校准该成像模型,其中该经校准成像模型具有一第一参数值集合;对应于该第一微影系统而利用该等成像结果来调谐该经校准成像模型,其中该经调谐之经校准模型具有一第二参数值集合;及基于该第一参数值集合与该第二参数值集合之间的一差来调整该第一微影系统之该等参数。
申请公布号 TWI446116 申请公布日期 2014.07.21
申请号 TW097132224 申请日期 2008.08.22
申请人 ASML荷兰公司 荷兰 发明人 叶军;曹育
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种利用一参考微影系统来调谐一第一微影系统之方法,该第一微影系统及该参考微影系统各自具有用于控制成像效能之可调谐参数,该方法包含以下步骤:界定一测试图案及一成像模型;利用该参考微影系统来成像该测试图案且量测成像结果;利用该第一微影系统来成像该测试图案且量测成像结果;利用对应于该参考微影系统之该等成像结果来校准该成像模型,该经校准成像模型具有一第一参数值集合;利用对应于该第一微影系统之该等成像结果来调谐该经校准成像模型,该经调谐之经校准模型具有一第二参数值集合;基于该第一参数值集合与该第二参数值集合之间的一差来调整该第一微影系统之该等参数。
地址 荷兰