| 摘要 |
本发明之乾式蚀刻剂包含(A)1,3,3,3-四氟丙烯，(B)选自由H2、O2、CO、O3、CO2、COCl2、CF3OF、COF2、NO2、F2、NF3、Cl2、Br2、I2、CH4、C2H2、C2H4、C2H6、C3H4、C3H6、C3H8、HI、HBr、HCl、NO、NH3、及YFn(式中，Y表示Cl、Br、或者I，n表示整数，为1≦n≦7)所组成之群中之至少一种添加气体，以及(C)惰性气体。该乾式蚀刻剂对于地球环境之影响较小，可飞跃性地扩大制程容许范围，亦无需特殊之基板之激发操作等而可对应于要求侧蚀率较小、高纵横比之加工。 |
