发明名称 |
一种分离元器件的切割框架 |
摘要 |
本实用新型公开了一种分离元器件的切割框架,它包括两组平行的矩形切割块(3),所述矩形切割块(3)放置在基底材料(2)中部,基底材料(2)外围与切割外边框(1)连接,基底材料(2)表面涂覆有一层用于阻隔紫外光及短波长可见光,在光照前粘度很大,光照之后粘度会变低的UV膜。本实用新型减少了基底材料表面涂覆的UV膜用量,提高UV膜的利用率,节约生产成本,降低操作员工劳动强度。 |
申请公布号 |
CN203697126U |
申请公布日期 |
2014.07.09 |
申请号 |
CN201420089374.0 |
申请日期 |
2014.02.28 |
申请人 |
成都先进功率半导体股份有限公司;乐山无线电股份有限公司 |
发明人 |
刘剑;樊增勇;许兵;叶川;罗天秀;刘达 |
分类号 |
B26D7/26(2006.01)I |
主分类号 |
B26D7/26(2006.01)I |
代理机构 |
成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 |
代理人 |
袁英 |
主权项 |
一种分离元器件的切割框架,其特征在于:它包括两组平行的矩形切割块(3),所述矩形切割块(3)放置在基底材料(2)中部,基底材料(2)外围与切割外边框(1)连接,基底材料(2)表面涂覆有一层用于阻隔紫外光及短波长可见光的UV膜。 |
地址 |
610041 四川省成都市高新区科新路8号 |