发明名称 一种分离元器件的切割框架
摘要 本实用新型公开了一种分离元器件的切割框架,它包括两组平行的矩形切割块(3),所述矩形切割块(3)放置在基底材料(2)中部,基底材料(2)外围与切割外边框(1)连接,基底材料(2)表面涂覆有一层用于阻隔紫外光及短波长可见光,在光照前粘度很大,光照之后粘度会变低的UV膜。本实用新型减少了基底材料表面涂覆的UV膜用量,提高UV膜的利用率,节约生产成本,降低操作员工劳动强度。
申请公布号 CN203697126U 申请公布日期 2014.07.09
申请号 CN201420089374.0 申请日期 2014.02.28
申请人 成都先进功率半导体股份有限公司;乐山无线电股份有限公司 发明人 刘剑;樊增勇;许兵;叶川;罗天秀;刘达
分类号 B26D7/26(2006.01)I 主分类号 B26D7/26(2006.01)I
代理机构 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 代理人 袁英
主权项 一种分离元器件的切割框架,其特征在于:它包括两组平行的矩形切割块(3),所述矩形切割块(3)放置在基底材料(2)中部,基底材料(2)外围与切割外边框(1)连接,基底材料(2)表面涂覆有一层用于阻隔紫外光及短波长可见光的UV膜。
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