发明名称 |
一种激光退火装置及其操作方法 |
摘要 |
本发明提出一种激光退火装置,其特征在于,沿光路依次包括:激光器、准直系统、扩束系统、匀光系统、分光聚焦系统、步进单元、工件台单元、能量监测单元以及轮廓监测系统;其中,所述步进单元控制曝光光斑进行步进运动,所述工件台单元控制硅片进行扫描运动。本发明将工件台进行简化,工件台仅带动硅片进行扫描运动,而使最后的线性光斑(即分光聚焦系统)进行步进运动,从而可以降低工件台的结构设计复杂程度和成本;同时,由于分光聚焦系统在尺寸和空间大小上都远小于工件台,这样相应的导轨、电机以及冲击力和可靠性等都会有显著的简化,空间和成本得到显著的提高。本发明还公开了该激光退火装置的操作方法。 |
申请公布号 |
CN103894734A |
申请公布日期 |
2014.07.02 |
申请号 |
CN201210589265.0 |
申请日期 |
2012.12.31 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
王成才;鲁武旺;兰艳平;刘国淦 |
分类号 |
B23K26/064(2014.01)I;B23K26/08(2014.01)I;H01L21/26(2006.01)I |
主分类号 |
B23K26/064(2014.01)I |
代理机构 |
北京连和连知识产权代理有限公司 11278 |
代理人 |
王光辉 |
主权项 |
一种激光退火装置,其特征在于,沿光路依次包括:激光器、准直系统、扩束系统、匀光系统、分光聚焦系统、步进单元、工件台单元、能量监测单元以及轮廓监测系统;从激光器出射的激光,依次经过准直系统、扩束系统、匀光系统后,经分光聚焦系统入射到硅片上;小部分能量经分光后分别入射到能量监测单元和轮廓监测系统;其中,所述步进单元控制曝光光斑进行步进运动,所述工件台单元控制硅片进行扫描运动。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 |