曝光装置及曝光方法

摘要

一种曝光装置，用于对涂胶基底进行至少两次曝光，包括至少两个SLM、运动机构、投影物镜、工件台、涂胶基底以及控制单元，至少两个空间光调制器分别安装于运动机构上，SLM、所述运动机构以及工件台分别由控制单元控制，载有涂胶基底的工件台在控制单元的控制下运动到待曝光位置，运动机构在控制单元的控制下将至少两个SLM依次调整至投影物镜的物面进行曝光，每个空间光调制器在控制单元的控制下依次进行数据载入阶段、器件重置阶段和图形显示阶段，控制单元控制各空间调制器同时进行上述任一阶段，从而提高所有SLM整体的有效刷新率，提高无掩模光刻设备的产率，并减少了SLM图形的显示时间，可使用连续光源制作高分辨率图形。

主权项

一种曝光装置，用于对涂胶基底进行曝光，其特征在于，包括照明单元、至少两个空间光调制器、运动机构、投影物镜、工件台以及控制单元，所述至少两个空间光调制器分别安装于所述运动机构上，所述空间光调制器、所述运动机构以及所述工件台分别由所述控制单元控制，载有所述涂胶基底的所述工件台在所述控制单元的控制下运动到待曝光位置，所述运动机构在所述控制单元的控制下将所述至少两个空间光调制器依次调整至所述投影物镜的物面进行曝光，每个空间光调制器在所述控制单元的控制下依次进行数据载入阶段、器件重置阶段和图形显示阶段，所述控制单元控制各空间调制器同时进行上述任一阶段。