| 发明名称 | 刻蚀剂组合物、金属图案的形成方法和阵列基板的制法 | ||
| 摘要 | 本申请公开了刻蚀剂组合物，形成金属图案的方法以及制造用于有机发光显示器的阵列基板的方法。所述刻蚀剂组合物用于银（Ag）或银合金的单层膜，或包括所述单层膜和铟氧化物膜的多层膜，基于所述刻蚀剂组合物的总重量，所述刻蚀剂组合物包括：6.0～8.0wt%的硝酸；8.0～12.0wt%的硫酸；8.0～10.0wt%的过氧硫酸氢钾；0.5～3.0wt%的有机酸；以及余量的水。 | ||
| 申请公布号 | CN103898509A | 申请公布日期 | 2014.07.02 |
| 申请号 | CN201310452645.4 | 申请日期 | 2013.09.25 |
| 申请人 | 东友FINE-CHEM股份有限公司 | 发明人 | 张尚勋;沈庆辅;李昔准 |
| 分类号 | C23F1/30(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人 | 张颖玲;胡春光 |
| 主权项 | 一种刻蚀剂组合物，所述刻蚀剂组合物用于银或银合金的单层膜，或由所述单层膜和铟氧化物膜组成的多层膜，基于所述刻蚀剂组合物的总重量，所述刻蚀剂组合物包括：6.0～8.0wt%的硝酸；8.0～12.0wt%的硫酸；8.0～10.0wt%的过氧硫酸氢钾；0.5～3.0wt%的有机酸；以及余量的水。 | ||
| 地址 | 韩国全罗北道 | ||