发明名称 |
高强度细颗粒立方氮化硼单晶及其合成方法和应用 |
摘要 |
本发明公开了一种高强度细颗粒立方氮化硼(cBN)单晶,选择Li<sub>3</sub>N和Ca<sub>3</sub>N<sub>2</sub>的混合物作触媒,纯度为98%~99.9%、氧化硼含量0.05%~0.5%、石墨化指数2~5的精制的hBN作为合成原料;Li<sub>3</sub>N和Ca<sub>3</sub>N按质量比为10~30:70~90混合组成触媒,触媒和精制的hBN按质量为8~20:80~92。同时本发明还公开该cBN单晶的合成方法及应用。本发明通过选择Li<sub>3</sub>N和Ca<sub>3</sub>N<sub>2</sub>的混合物作触媒,以精制hBN为原料,在较低的合成压力和温度下,合成晶形完整、强度高、耐磨性高、透明性好的细颗粒cBN单晶,适用于高硬度合金铸铁、高铬铁、淬火钢、高温合金等材料的半精加工和精加工,可提高加工精度和加工效率,单位加工成本低。 |
申请公布号 |
CN103877914A |
申请公布日期 |
2014.06.25 |
申请号 |
CN201410140521.7 |
申请日期 |
2014.04.01 |
申请人 |
许斌 |
发明人 |
许斌;温振兴;蔡立超;吕美哲;张文;苏海通 |
分类号 |
B01J3/06(2006.01)I;C30B29/38(2006.01)I |
主分类号 |
B01J3/06(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种高强度细颗粒立方氮化硼单晶,其特征是,选择Li<sub>3</sub>N和Ca<sub>3</sub>N<sub>2</sub>的混合物作触媒,纯度为98%~99.9%、氧化硼含量0.05%~0.5%、石墨化指数2~5的精制的hBN作为合成原料;Li<sub>3</sub>N和Ca<sub>3</sub>N按质量比为10~30:70~90混合组成触媒,混合触媒和精制的hBN的质量比为8~20:80~92。 |
地址 |
250101 山东省济南市临港开发区凤鸣路山东建筑大学材料学院 |