发明名称 | 图形处理系统 | ||
摘要 | 本发明涉及图形处理系统。通过如下方式以图形纹理来表示平滑曲线:将处于曲线(1)之内的纹元设置成大于预先确定的阈值的值;并且将处于曲线(1)之外的纹元设置成小于该阈值的值(或者反之亦然)。针对采样位置返回的纹理值因此可以被用于确定是否应该将被采样的位置处理成处于该曲线(1)之内。优化该纹理以用于使用双线性滤波的采样。 | ||
申请公布号 | CN101714259B | 申请公布日期 | 2014.06.25 |
申请号 | CN200910178762.X | 申请日期 | 2009.09.30 |
申请人 | ARM有限公司 | 发明人 | J·尼斯塔德;R·霍尔姆 |
分类号 | G06T15/10(2006.01)I | 主分类号 | G06T15/10(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 王岳;蒋骏 |
主权项 | 一种用于在图形处理系统中渲染由平滑曲线限定的形状的方法,该方法包括:将表示与限定该形状的曲线相对应的曲线的图形纹理应用于待渲染的图元,其方式是通过对该纹理中的针对所述图元内的采样位置的纹理值进行采样;以及将采样纹理值用于确定应该将所述采样位置处理成处于该曲线的哪一侧,其中该图形纹理被配置为使得该纹理中在该纹理所表示的曲线的一侧的所有位置都将返回小于所选择的阈值的采样纹理值,并且该纹理中在该曲线的另一侧的所有位置都将返回大于所选择的阈值的采样纹理值;该方法包括:将针对所述图元的被采样的采样位置的采样纹理值与该曲线的所选择的阈值纹理值相比较,以便确定应该将所述图元的被采样的采样位置处理成处于该曲线的哪一侧,其中该纹理被配置为使得当使用特定的所选择的纹理滤波过程对该纹理进行采样时该纹理将最准确地表示该平滑曲线;该方法包括:使用该特定的所选择的纹理滤波过程来对该纹理中的纹理值进行采样,其中针对该纹理滤波过程配置该纹理。 | ||
地址 | 英国剑桥郡 |