发明名称 |
用于非晶硒薄膜的蒸发镀膜机 |
摘要 |
本实用新型公开了一种用于非晶硒薄膜的蒸发镀膜机,包括真空密封的镀膜室,所述镀膜室内设有蒸发源和基片,其中,所述镀膜室的中间区域为镀膜区,左右两侧为控温区,所述蒸发源设置在镀膜区内,所述镀膜区和控温区内设有导轨,所述基片的背面贴有铜背板并通过基片架固定在导轨上。本实用新型提供的用于非晶硒薄膜的蒸发镀膜机,当基片温度由于蒸镀后升高且接近临界安全温度时,基片沿着导轨移动并停留在左端或右端控温区降温,在温度降至安全温度后再返回镀膜区继续镀膜,直至厚度达到要求且温度降至安全温度后出料,从而保证镀膜的均匀性,有效避免散热不均匀或冷却过快导致的基片损坏,提高产品合格率。 |
申请公布号 |
CN203668497U |
申请公布日期 |
2014.06.25 |
申请号 |
CN201320745620.9 |
申请日期 |
2013.11.22 |
申请人 |
上海嘉森真空科技有限公司 |
发明人 |
毛念新;严仲君;黄翔鄂;王新征 |
分类号 |
C23C14/06(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/06(2006.01)I |
代理机构 |
上海申汇专利代理有限公司 31001 |
代理人 |
金碎平 |
主权项 |
一种用于非晶硒薄膜的蒸发镀膜机,包括真空密封的镀膜室(1),所述镀膜室(1)内设有蒸发源(2)和基片(3),其特征在于,所述镀膜室(1)的中间区域为镀膜区,左右两侧为控温区,所述蒸发源(2)设置在镀膜区内,所述镀膜区和控温区内设有导轨(11),所述基片(3)的背面贴有铜背板(8)并通过基片架(4)固定在导轨(11)上。 |
地址 |
201812 上海市嘉定区曹安路3652号6栋 |