发明名称 |
一种肖特基单触发开关集成EFI芯片单元及爆炸箔起爆装置 |
摘要 |
本发明公开了一种肖特基单触发开关集成EFI芯片单元及爆炸箔起爆装置。所述肖特基单触发开关集成EFI芯片单元包括:Si3N4的硅基底、金属Ti/Cu层、聚酰亚胺层、上电极Ti/W/Ti/Cu/Au和肖特基二级管,所述爆炸箔起爆装置包括肖特基单触发开关集成EFI芯片单元、飞片、加速膛、炸药柱、印制电路板底座、传输线、低压贴片电容、高压贴片电容。本发明与现有技术相比,其显著优点在于金属Ti/Cu层在肖特基单触发开关单元中作下电极,在爆炸箔起爆单元中作爆炸箔,聚酰亚胺层在肖特基单触发开关单元中作上下电极间的绝缘层,在爆炸箔起爆单元中作爆炸箔起爆器的飞片层,减少了工艺流程,成本低,体积小;肖特基二极管具有反向击穿特性,使开关能够抗杂散电流,具有本质的安全性。 |
申请公布号 |
CN103868422A |
申请公布日期 |
2014.06.18 |
申请号 |
CN201410120549.4 |
申请日期 |
2014.03.27 |
申请人 |
南京理工大学 |
发明人 |
朱朋;沈瑞琪;叶迎华;胡博;吴立志;胡艳 |
分类号 |
F42D1/045(2006.01)I |
主分类号 |
F42D1/045(2006.01)I |
代理机构 |
南京理工大学专利中心 32203 |
代理人 |
朱显国 |
主权项 |
一种肖特基单触发开关集成EFI芯片单元,其特征是:所述单元包括Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>的硅基底(1)、金属Ti/Cu层(2)、聚酰亚胺层(3)、上电极Ti/W/Ti/Cu/Au(4)和肖特基二级管(5);所述Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>的硅基底(1)上设置金属Ti/Cu层(2),所述金属Ti/Cu层(2)分为下电极区和桥箔区,所述下电极区为矩形结构,桥箔区为两端宽中间窄的桥型结构,窄的部分为爆炸箔(6),宽的一端与下电极区相连,所述金属Ti/Cu层(2)上设置聚酰亚胺层(3),所述聚酰亚胺层(3)完全覆盖下电极区及部分桥箔区,使未与下电极区相连的桥箔区宽的一端金属铜层裸露,所述下电极区聚酰亚胺层(3)上设置上电极Ti/W/Ti/Cu/Au(4),上电极Ti/W/Ti/Cu/Au(4)上设置肖特基二级管(5),所述下电极区以及设置在其上的聚酰亚胺层(3)、上电极Ti/W/Ti/Cu/Au(4)和肖特基二级管(5)构成单触发开关单元。 |
地址 |
210094 江苏省南京市孝陵卫200号 |