| 发明名称 | 一种磷酸酯表面活性剂在自停止抛光中的应用 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种磷酸酯表面活性剂在自停止抛光中的应用。上述磷酸酯表面活性剂可以保持较高的铜的去除速率，改善抛光后铜线的碟形凹陷和过抛窗口，抛光后的铜表面污染物少,无腐蚀等缺陷。 | ||
| 申请公布号 | CN103865400A | 申请公布日期 | 2014.06.18 |
| 申请号 | CN201210528270.0 | 申请日期 | 2012.12.10 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 荆建芬;张建;蔡鑫元 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C23F3/04(2006.01)I;C23F3/06(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 1.一种磷酸酯表面活性剂在自停止抛光中的应用，其特征在于，所述的磷酸酯类表面活性剂至少含有如下结构式的一种或多种：<img file="FDA00002552750900011.GIF" wi="446" he="217" />和/或<img file="FDA00002552750900012.GIF" wi="505" he="217" />其中：X=RO,RO-(CH<sub>2</sub>CH<sub>2</sub>O)<sub>n</sub>,RCOO-(CH<sub>2</sub>CH<sub>2</sub>O)<sub>n</sub>;R为C8~C22的烷基或烷基苯、甘油基（C<sub>3</sub>H<sub>5</sub>O<sub>3</sub>-），n=2~30,M=H,K,NH<sub>4</sub>，(CH<sub>2</sub>CH<sub>2</sub>O)<sub>1~3</sub>NH<sub>3~1</sub>和/或Na。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室 | ||