使用处理腔室壁上的硅涂层增强清除残余的氟自由基的方法

摘要

本文提供用以处理基板的方法与装置。在一些实施例中，一种用于基板处理的装置包括处理腔室以及含硅涂层，所述处理腔室具有腔室主体，所述腔室主体限定内部空间，所述含硅涂层设置在所述腔室主体的内表面上，所述含硅涂层的外表面为至少35％原子数的硅。在一些实施例中，一种用以在处理腔室中形成含硅涂层的方法包括：将包含含硅气体的第一工艺气体提供到所述处理腔室的内部空间；以及在所述处理腔室的内表面上形成含硅涂层，其中所述含硅涂层的外表面为至少35％的硅。

主权项

一种用于基板处理的装置，所述装置包括：处理腔室，所述处理腔室具有腔室主体，所述腔室主体限定内部空间；以及包含硅和氧的单涂层，所述单涂层设置在所述腔室主体的内部表面上，其中所述涂层具有内表面和外表面，所述内表面靠近所述内部表面，所述外表面为至少35%原子数的硅，并且其中氧浓度从所述内表面朝向所述外表面降低。