减少掩膜板雾状缺陷的方法

摘要

本发明提供一种减少掩膜板雾状缺陷的方法，所述方法包括如下步骤：由下至上依次形成掩模板材料、金属铝和第一光刻胶，掩模板材料自下而上包括石英衬底和铬层；以第一光刻胶为掩膜，通过光刻工艺将金属铝刻蚀成铝框架，去除最后还覆盖在铝框架上的第一光刻胶；在暴露出的掩模板材料上以及铝框架上涂敷满第二光刻胶，以第二光刻胶为掩膜，通过光刻工艺将铬层刻蚀以形成掩模板图案，去除最后还覆盖在掩模板材料和铝框架上的第二光刻胶；以纯水作为电解液，通过电解将铝框架的表面氧化以形成氧化铝；在氧化铝上黏贴覆盖层以形成掩模板保护膜，从而使铝框架和掩模板粘合时无需胶水，从而减少雾状产生的影响因子，进而提高铝框架和掩模板的结合力。

主权项

一种减少掩膜板雾状缺陷的方法，其特征在于，包括如下步骤：由下至上依次形成掩模板材料、金属铝和第一光刻胶，所述掩模板材料自下而上包括石英衬底和铬层；以所述第一光刻胶为掩膜，通过光刻工艺将金属铝刻蚀成铝框架，去除最后还覆盖在铝框架上的第一光刻胶；在暴露出的掩模板材料上以及铝框架上涂敷满第二光刻胶，以所述第二光刻胶为掩膜，通过光刻工艺将所述铬层刻蚀以形成掩模板图案，去除最后还覆盖在掩模板材料和铝框架上的第二光刻胶；以纯水作为电解液，通过电解将所述铝框架的表面氧化以形成氧化铝；在所述氧化铝上黏贴覆盖层以形成掩模板保护膜。