发明名称 Verfahren zur Dotierung von Halbleiterkristallen für Halbleiterbauelemente, insbesondere Transistoren
摘要
申请公布号 CH355528(A) 申请公布日期 1961.07.15
申请号 CHD355528 申请日期 1957.08.09
申请人 SIEMENS & HALSKE AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 KNIEPKAMP,HEINRICH,DR.
分类号 C30B13/12;H01L21/00 主分类号 C30B13/12
代理机构 代理人
主权项
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