一种可提高扩散均匀性的涂源扩散方法及扩散设备

摘要

本发明提供一种可提高扩散均匀性的涂源扩散方法及扩散设备。现有技术直接在清洗所形成的疏水性的硅片表面涂敷扩散源易造成扩散源收缩凝聚，从而导致扩散不均匀。本发明的可提高扩散均匀性的涂源扩散方法先提供完成制绒清洗的硅片，之后在所述硅片表面氧化形成氧化层，接着在所述硅片表面喷涂扩散源，最后进行热处理在所述硅片上形成PN结。本发明可有效提高扩散的均匀性，避免PN结未覆盖整个硅片表面。

主权项

一种可提高扩散均匀性的涂源扩散方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：a、提供完成制绒清洗的硅片；b、在所述硅片表面氧化形成氧化层；c、在所述硅片表面喷涂扩散源；d、进行热处理在所述硅片上形成PN结。