| 摘要 |
Die Erfindung betrifft zunächst eine Vorrichtung zum Bearbeiten, insbesondere Beschichten eines streifenförmigen Substrates (1) in einer Bearbeitungskammer (2), mit einer in der Bearbeitungskammer (2) um eine Drehachse (18) drehbar gelagerten Bearbeitungswalze (3), auf deren Mantelfläche das von einer ersten Spule (6) abgewickelte Substrat (1) wendelgangartig aufliegend, kontinuierlich bearbeitet, insbesondere beschichtet wird, wobei das bearbeitete, insbesondere beschichtete Substrat (1) auf einer zweiten Spule (7) aufgewickelt wird. Um im kontinuierlichen Durchlauf streifenförmige Substrate mit einer Schicht aus Graphene oder einer Schicht aus Nanoröhrchen zu beschichten, wird eine Gaseinlass/-auslass/-Einrichtung (8, 9, 10) zur Erzeugung eines im Wesentlichen parallel zur Drehachse (18) gerichteten Gasstroms (11, 12) vorgeschlagen. Weiter betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Beschichten eines streifenförmigen Substrates (1) in einer Vorrichtung. |
