发明名称 | 产生芳族聚酰胺硅酮聚合物的方法 | ||
摘要 | 本发明涉及用于生产芳族聚酰胺硅酮聚合物的方法。本发明的特征是:在10℃或更高的温度下,在(D)无机碱存在下,将(A)在分子链的两个末端具有由下式表示的基团的两个末端经氨基修饰的二有机聚硅氧烷:-B-NH<sub>2</sub>,其中B表示二价烃基,(B)芳族二胺和(C)芳族二羧酸二卤化物在(S1)水和(S2)非质子有机溶剂中进行反应。本发明不必须在低温下进行,且可以容易地处理副产物。此外,本发明不需要大量的再沉淀溶剂,且因此其可适合用于大量生产芳族聚酰胺硅酮聚合物。 | ||
申请公布号 | CN102686647B | 申请公布日期 | 2014.05.21 |
申请号 | CN201080050912.X | 申请日期 | 2010.09.28 |
申请人 | 道康宁东丽株式会社 | 发明人 | 西岛和宏;大川直 |
分类号 | C08G77/445(2006.01)I | 主分类号 | C08G77/445(2006.01)I |
代理机构 | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人 | 杨洲;郑霞 |
主权项 | 一种用于生产芳族聚酰胺硅酮聚合物的方法,其特征是:在10℃或更高的温度下,在(D)无机碱存在下,将(A)在分子链的两个末端各自具有由下式表示的基团的两个末端经氨基修饰的二有机聚硅氧烷:‑B‑NH<sub>2</sub>,其中B表示二价烃基,(B)芳族二胺,和(C)芳族二羧酸二卤化物在(S1)水和(S2)非质子有机溶剂中进行反应。 | ||
地址 | 日本东京都 |