处理材料试样的方法

摘要

一种在材料试样1中产生光滑表面23的方法，包括：通过粒子束蚀刻将第一材料量去除来产生基本光滑的第一表面区域21，其中，所述第一材料量由所述第一表面区域部分地限定，并且其中，射束方向15与第一表面区域21的表面法线之间的角度大于80°且小于90°；并且通过去除第二材料量II来产生基本光滑的第二表面区域23，其中，所述第二材料量由第一表面区域21′部分地限定且由第二表面区域23部分地限定，并且其中，所述射束方向15与第二表面区域23的表面法线之间的角度α小于60°。

主权项

一种处理材料试样的方法，其中，所述方法包括：在粒子束柱的处理区域中处置所述材料试样，并且在第一方向上相对于所述粒子束柱定向材料试样；通过使用由所述粒子束柱产生的粒子束由粒子束蚀刻将第一材料量从所述材料试样中去除来产生材料试样的基本光滑的第一表面区域，其中，所述第一材料量由所述第一表面区域部分地限定，并且其中，在所述粒子束与第一表面区域的交叉点处的粒子束的射束方向与第一表面区域的表面法线之间的角度大于80°且小于90°；在所述粒子束柱的处理区域中处置所述材料试样，并且在第二方向上相对于粒子束柱定向材料试样，从而使在所述粒子束与第一表面区域的交叉点处的粒子束的射束方向与第一表面区域的表面法线之间的角度小于70°；通过使用由所述粒子束柱产生的粒子束由粒子束蚀刻将第二材料量从所述材料试样中去除来产生材料试样的基本光滑的第二表面区域，其中，所述第二材料量由所述第一表面区域部分地限定且由所述第二表面区域部分地限定，并且其中，在所述粒子束与第二表面区域的交叉点处的粒子束的射束方向与第二表面区域的表面法线之间的角度小于60°。