发明名称 一种光子晶体结构GaN基LED的制备方法
摘要 一种光子晶体结构GaN基LED的制备方法,涉及LED器件。1)在GaN基LED外延片表面蒸镀透明导电层;2)在步骤1)生长的透明导电层上生长一层掩膜层;3)在步骤2)生长的掩膜层上涂上压印胶,利用硬模板直接纳米压印,脱模后在胶体表面形成纳米结构;4)对外延片进行残胶去除;5)对外延片进行刻蚀以除去掩膜层未被压印胶覆盖的部分,即将压印胶的纳米结构复制到掩膜层上;6)去除掩膜层表面所有残余压印胶;7)在外延片表面再次蒸镀与步骤1)所述相同的透明导电层;8)去除外延片表面残余掩膜层,在透明导电层上得到光子晶体结构;9)将上述步骤得到的光子晶体结构采用传统工艺即得到光子晶体结构GaN基LED。
申请公布号 CN103794688A 申请公布日期 2014.05.14
申请号 CN201410049914.7 申请日期 2014.02.13
申请人 厦门大学 发明人 刘宝林;陈志远;朱丽虹;曾凡明;林飞
分类号 H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/00(2010.01)I
代理机构 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 代理人 马应森
主权项 一种光子晶体结构GaN基LED的制备方法,其特征在于包括以下步骤:1)在GaN基LED外延片表面蒸镀透明导电层;2)在步骤1)生长的透明导电层上生长一层掩膜层;3)在步骤2)生长的掩膜层上涂上压印胶,利用具有纳米结构的硬模板直接进行纳米压印,脱模后在胶体表面形成纳米结构;4)对外延片进行残胶去除以保证胶体纳米孔状结构中的残胶均被移除;5)对外延片进行刻蚀以除去掩膜层未被压印胶覆盖的部分,即将压印胶的纳米结构复制到掩膜层上;6)去除掩膜层表面所有残余压印胶;7)在外延片表面再次蒸镀与步骤1)所述相同的透明导电层;8)去除外延片表面残余掩膜层,在透明导电层上得到光子晶体结构;9)将上述步骤得到的光子晶体结构采用传统工艺即得到光子晶体结构GaN基LED。
地址 361005 福建省厦门市思明南路422号