| 发明名称 |
氧化铟系烧结体及溅镀靶 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI436959 |
申请公布日期 |
2014.05.11 |
| 申请号 |
TW098118184 |
申请日期 |
2009.06.02 |
| 申请人 |
出光兴产股份有限公司 日本 |
发明人 |
井上一吉;宇都野太;川嶋浩和;矢野公规;笘井重和;笠见雅司;寺井恒太 |
| 分类号 |
C04B35/01;C04B35/64;C23C14/34;C23C14/08;H01L21/3205 |
主分类号 |
C04B35/01 |
| 代理机构 |
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代理人 |
恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
