| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft den Unterbau und insbesondere die Lagerung für eine Apparatur zur Substratbehandlung. Die Apparatur ist aufgrund derer Wirkungsweise insofern stoßempfindlich, dass sich bei Schwingungen oder Stößen die substratbehandelnde Wirkung verzerrt, verfälscht oder zumindest unpräzise am Substrat niederschlägt. Derartige Probleme treten beispielsweise dort auf und lassen sich durch die Erfindung beheben, wo die Substratbehandlung mit fokussiertem Licht erfolgt. Es ist das Ziel der Erfindung, kritische Schwingungen, die ursächlich von der Standfläche einer Apparatur herrühren, weitestgehend so zu unterdrücken, dass in der Apparatur die Lichtquelle für hochfokussiertes Linienlicht sowie das Substrat lagestabil gegenüber störenden Schwingungen behandelbar ist, sowie Aufgabeeine Apparatur mit einer verbesserter Lagerung zu schaffen. Es kennzeichnet die Erfindung, dass zwischen Aufstellfläche (6) und Förderer (7) mehrfach und/oder dass zwischen Förderer (7) und Halter (5) mindestens zweifach ein schwingungsdämpfendes Lager (9, 10) vorgesehen ist und dass das Lager (9, 10) eine vorgebbare Lagerschwingung ausführend ausgebildet ist.</p> |
