| 发明名称 | 用于开放池培养微藻的阱式补碳装置及其补碳方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及微藻培养领域，具体地，本发明涉及用于开放池培养微藻的阱式补碳装置及其补碳方法。本发明的用于开放池培养微藻的阱式补碳装置，包括阱式容器（1）、隔板（2）和气体分布器（3），所述气体分布器（3）设置于阱式补碳装置（6）的培养液进口处；所述阱式补碳装置（6）的培养液进口侧的厚度为开放池培养液层深度的0.5～2倍；所述隔板（2）下端与阱式容器（1）底部间隙是阱式补碳装置（6）的培养液进口侧厚度的0.5～2倍；所述隔板（2）上端高出阱式容器壁，宽度与阱式容器（1）配合。本发明的补碳装置延长了气液接触时间，减小了阱式容器深度，从而降低了补碳装置的流体流动阻力、节省能耗。 | ||
| 申请公布号 | CN102643741B | 申请公布日期 | 2014.04.30 |
| 申请号 | CN201210138598.1 | 申请日期 | 2012.05.07 |
| 申请人 | 中国科学院过程工程研究所 | 发明人 | 丛威;孙中亮;刘明;吴霞;张东梅;温树梅 |
| 分类号 | C12M1/04(2006.01)I;C12M1/02(2006.01)I;C12N1/12(2006.01)I;C12R1/89(2006.01)N | 主分类号 | C12M1/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京法思腾知识产权代理有限公司 11318 | 代理人 | 杨小蓉;杨青 |
| 主权项 | 一种用于开放池培养微藻的阱式补碳装置，包括阱式容器（1）、隔板（2）和气体分布器（3），其特征在于，所述气体分布器（3）设置于阱式补碳装置（6）的培养液进口处；所述阱式补碳装置（6）的培养液进口侧隔板和侧壁之间的距离为开放池培养液层深度的0.5～2倍；所述隔板（2）下端与阱式容器（1）底部的间隙是阱式补碳装置（6）的培养液进口侧隔板和侧壁之间的距离的0.5～2倍；所述隔板（2）上端高出阱式容器壁，宽度与阱式容器（1）相配合，所述阱式补碳装置嵌入到开放池底而且阱式容器上端沿与开放池的池底平齐。 | ||
| 地址 | 100190 北京市海淀区中关村北二条1号 | ||