发明名称 有机发光二极管膜层图案的制造方法及其制造治具
摘要 本发明提供了一种形成有机发光二极管膜层图案的制造方法及其制造治具。该制造方法包括:提供一基材;形成一可撕胶膜于基材的上方,该可撕胶膜具有一预设图案;将一有机发光二极管膜层镀于基材以及可撕胶膜的上方;以及撕除有机发光二极管膜层的一部分和该可撕胶膜,从而形成有机发光二极管膜层图案。相比于现有技术,本发明采用可撕胶膜作为遮罩材料,大幅节约了遮罩成本,并且该可撕胶膜可完美解决现有金属遮罩极端不适用可挠制程的问题。此外,该制造方法的镀膜机台无需考虑对位、磁吸、遮罩搬运等相关费用成本,还可节约制程时间。
申请公布号 CN103762322A 申请公布日期 2014.04.30
申请号 CN201410050164.5 申请日期 2014.02.13
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 谢维容;黄信哲
分类号 H01L51/56(2006.01)I 主分类号 H01L51/56(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 徐金国
主权项 一种用于形成有机发光二极管膜层图案的制造方法,其特征在于,该制造方法包括以下步骤:提供一基材;形成一可撕胶膜于所述基材的上方,其中所述可撕胶膜具有一预设图案;将一有机发光二极管膜层镀于所述基材以及所述可撕胶膜的上方;以及撕除所述有机发光二极管膜层的一部分和所述可撕胶膜,以得到所述有机发光二极管膜层的目标区域,从而形成所述有机发光二极管膜层图案。
地址 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路1号