双体双面真空镀膜设备

摘要

本发明涉及真空镀膜设备，具体是一种双体双面真空镀膜设备。包括镀膜室、真空系统、控制真空系统的电控系统，镀膜室为两个，镀膜室均包括外筒体与置于外筒体内部的内筒体，内筒体与外筒体之间的密闭空间为镀膜区，内筒体、外筒体相对的侧面上均设有离子发射装置。本设备两个独立的镀膜室可对待镀工件同时实现双面镀膜，大大提高生产效率；采用内外筒体结构的镀膜室有效减小镀膜室的空闲容积，降低真空泵的功耗；用一套共用电源和控制系统，可降低生产成本；低真空系统和高真空系统通过转换阀门交替为两个镀膜室抽真空，大大提高了真空系统的利用率。本设备不仅适用于多弧离子镀，也适用于磁控溅射镀、蒸发镀膜。

主权项

一种双体双面真空镀膜设备，包括镀膜室、真空系统、控制真空系统的电控系统，其特征在于，所述的镀膜室为两个，所述的镀膜室均包括外筒体与置于外筒体内部的内筒体，所述的内筒体与外筒体之间的密闭空间为镀膜区，所述的内筒体、外筒体相对的侧面上均设有离子发射装置。