光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜及图案形成方法

摘要

提供碳浓度高、氧浓度低、耐热性较高、溶剂溶解性也比较高、能够适用湿式工艺的新型光刻用下层膜形成材料等。本发明的光刻用下层膜形成材料的特征在于，其含有下述通式(1)所示的化合物。式(1)中，X各自独立地是氧原子或硫原子，R¹各自独立地是单键或碳原子数为1～30的2n价的烃基，该烃基任选具有环式烃基、双键、杂原子或碳原子数为6～30的芳香族基团，R²各自独立地是碳原子数为1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳原子数为6～10的芳基、碳原子数为2～10的链烯基或羟基，其中，R²的至少一个是羟基，m各自独立地是1～6的整数，n是1～4的整数。

主权项

1.一种光刻用下层膜形成材料，其特征在于，其含有下述通式(1)所示的化合物，式(1)中，X各自独立地是氧原子或硫原子，R¹各自独立地是单键或碳原子数为1～30的2n价的烃基，该烃基任选具有环式烃基、双键、杂原子或碳原子数为6～30的芳香族基团，R²各自独立地是碳原子数为1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳原子数为6～10的芳基、碳原子数为2～10的链烯基或羟基，其中，R²的至少一个是羟基，m各自独立地是1～6的整数，n是1～4的整数。