发明名称 |
制造衬底的方法 |
摘要 |
一种制造衬底的方法包括在衬底上形成隔开第一特征。将可变材料沉积于所述隔开第一特征上且用来自所述隔开第一特征的材料改变所述可变材料以在所述隔开第一特征的侧壁上形成经改变材料。将第一材料沉积于所述经改变材料上,且第一材料具有与所述经改变材料的组合物不同的某组合物。蚀刻所述第一材料以暴露所述经改变材料,且将包含所述第一材料的隔开第二特征形成于所述经改变材料的侧壁上。接着,从所述隔开第二特征与所述隔开第一特征之间蚀刻所述经改变材料。经由包含所述隔开第一特征及所述隔开第二特征的掩模图案处理所述衬底。本发明还揭示其它实施例。 |
申请公布号 |
CN102239541B |
申请公布日期 |
2014.04.09 |
申请号 |
CN200980148590.X |
申请日期 |
2009.11.11 |
申请人 |
美光科技公司 |
发明人 |
斯科特·西里斯;古尔特杰·S·桑胡;安东·德维利耶 |
分类号 |
H01L21/027(2006.01)I;H01L21/20(2006.01)I;H01L21/302(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01)I |
代理机构 |
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 |
代理人 |
宋献涛 |
主权项 |
一种制造衬底的方法,其包含:在衬底上形成隔开第一特征,所述隔开第一特征具有在高度上一致的底部;在所述隔开第一特征上沉积可变材料,且用来自所述隔开第一特征的材料改变所述可变材料以在所述隔开第一特征的侧壁上形成经改变材料;在所述经改变材料上沉积第一材料,所述第一材料具有与所述经改变材料的组合物某些不同的组合物并且具有与所述隔开第一特征的底部在高度上一致的一在高度上最深的底部;蚀刻所述第一材料以暴露所述经改变材料,且在所述经改变材料的侧壁上形成包含所述第一材料的隔开第二特征;在形成所述隔开第二特征之后,从所述隔开第二特征与所述隔开第一特征之间蚀刻所述经改变材料;及经由包含所述隔开第一特征及所述隔开第二特征的掩模图案处理所述衬底。 |
地址 |
美国爱达荷州 |