一种阵列基板、其制作方法、液晶显示屏及显示装置

摘要

本发明公开了一种阵列基板、其制作方法、液晶显示屏及显示装置，由于在衬底基板与取向层之间增加一层与金属线互不重合的透明的厚度补偿层，且透明导电氧化物膜层与厚度补偿层的重叠面积为透明导电氧化物膜层的面积，且厚度补偿层的厚度与透明导电氧化物膜层的厚度之和与金属线的厚度相同，这样补偿了透明导电氧化物膜层与金属线的厚度差异，避免了与金属线边缘处相对应的取向层摩擦不充分，出现对位于金属线边缘附近的液晶分子的取向作用较弱，而使液晶分子在金属线的水平电场作用下发生旋转所导致的漏光问题，进而改善了液晶显示屏的对比度。

主权项

一种阵列基板，包括衬底基板，位于所述衬底基板上的金属线和透明导电氧化物膜层，以及位于所述金属线和所述透明导电氧化物膜层上方的取向层；其特征在于，还包括：位于所述衬底基板与所述取向层之间的透明的厚度补偿层；所述透明导电氧化物膜层在所述衬底基板上的投影位于所述厚度补偿层在所述衬底基板上的投影内，且所述厚度补偿层在所述衬底基板上的投影与所述金属线在所述衬底基板上的投影互不重合；所述厚度补偿层的厚度与所述透明导电氧化物膜层的厚度之和等于所述金属线的厚度。