| 发明名称 | 蚀刻剂和使用该蚀刻剂制造显示设备的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种蚀刻剂和使用该蚀刻剂制造显示设备的方法。一种根据本发明的示例性实施方式的蚀刻剂包括：重量百分比含量为约0.5%至约20%的过硫酸盐；重量百分比含量为约0.01%至约2%的氟化合物；重量百分比含量为约1%至约10%的无机酸；重量百分比含量为约0.5%至约5%的环胺化合物；重量百分比含量为约0.1%至约5%的氯化合物；重量百分比含量为约0.05%至约3%的铜盐；重量百分比含量为约0.1%至约10%的有机酸或有机酸盐和水。 | ||
| 申请公布号 | CN103668207A | 申请公布日期 | 2014.03.26 |
| 申请号 | CN201210359316.0 | 申请日期 | 2012.09.24 |
| 申请人 | 东友精细化工有限公司 | 发明人 | 李昔准;权五柄;刘仁浩;张尚勋;朴英哲;李喻珍;李俊雨;金相泰;秦荣晙 |
| 分类号 | C23F1/18(2006.01)I;C23F1/26(2006.01)I;H01L21/3213(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 李中奎 |
| 主权项 | 一种蚀刻剂，所述蚀刻剂包括：重量百分比含量为约0.5%至约20%的过硫酸盐；重量百分比含量为约0.01%至约2%的氟化合物；重量百分比含量为约1%至约10%的无机酸；重量百分比含量为约0.5%至约5%的环胺化合物；重量百分比含量为约0.1%至约5%的氯化合物；重量百分比含量为约0.05%至约3%的铜盐；重量百分比含量为约0.1%至约10%的有机酸或有机酸盐；以及水。 | ||
| 地址 | 韩国全罗北道益山市 | ||