薄膜处理设备

摘要

本发明涉及一种薄膜处理设备(8)，包括具有至少一个柱形部分(26)的转子(16)，至少一个刮擦叶片(32，33，34，35，36，41)布置在所述柱形部分上，所述刮擦叶片包括至少两个齿(42，43，44，42′，43′，44′)，其特征在于，至少一部分所述齿(42，43，44，42′，43′，44′)形成大于0°的朝向竖直方向的角度α，所有所述齿的平均角度αm小于14°。

主权项

一种薄膜处理设备(8)，包括具有至少一个柱形部分(26)的转子(16)，至少一个刮擦叶片(32，33，34，35，36，41)被布置在所述柱形部分上，所述刮擦叶片包括至少两个齿(42，43，44，42′，43′，44′)，其特征在于，至少一部分所述齿(42，43，44，42′，43′，44′)形成大于0°的朝向竖直方向的角度α，所有所述齿的平均角度αm小于14°，从而薄膜处理设备的生产能力可显著增加，而同时不会超过最大“F因子”，其中叶片的最大周向速度与设备内的最大温度的乘积表示最大“F因子”。