发明名称 一种硅钢片层间电阻双层叠加测试方法
摘要 本发明公开了一种硅钢片层间绝缘电阻双层叠加测试方法,即两层硅钢片试样层叠并置于测试台与压头之间,测试台底面设置支撑台;拉力机上、下夹具分别抵靠压头顶面和支撑台底面并施压,上层硅钢片试样沿压头两侧折弯,使两层硅钢片试样非施压区域分离;采用两个电路夹分别夹持两层硅钢片试样两端,电路夹金属卡槽接触硅钢片试样铁基体;通过电路夹连接测试电路,分别串接电源和电流表及电压表;读出电流值和电压值,则两层硅钢片试样的层间电阻值R=(V/A)*S,S为测试区域面积。本方法方便实施硅钢片层间绝缘电阻测试,试样无需加工处理,保证施压与测试面积的一致性,避免接触电阻对测试结果的影响,提高测试的稳定性和可靠性。
申请公布号 CN103675453A 申请公布日期 2014.03.26
申请号 CN201210356581.3 申请日期 2012.09.24
申请人 上海宝钢工业技术服务有限公司 发明人 沈杰;施强忠;周星;张益
分类号 G01R27/02(2006.01)I 主分类号 G01R27/02(2006.01)I
代理机构 上海天协和诚知识产权代理事务所 31216 代理人 张恒康
主权项 一种硅钢片层间绝缘电阻双层叠加测试方法,其特征在于本方法包括如下步骤:步骤一,上层硅钢片试样与下层硅钢片试样层叠设置,并放置于底面中部设有半球的测试台上,测试台底面设置支撑台,上层硅钢片试样顶面设置压头;步骤二、拉力机的上夹具和下夹具分别抵靠压头顶面和支撑台底面,并通过拉力机的上夹具和下夹具对层叠设置的上层硅钢片试样和下层硅钢片试样施加50N‑2000N的压力,上层硅钢片试样沿压头两侧向上折弯,使上层硅钢片试样与下层硅钢片试样非施压区域分离;步骤三,采用两个电路夹分别夹持上层硅钢片试样和下层硅钢片试样两端的两侧面,电路夹的绝缘块两侧分别设有金属卡槽,电路夹的金属卡槽接触硅钢片两侧面的铁基体;步骤四、通过上层硅钢片试样和下层硅钢片试样两端的电路夹连接测试电路,从电路夹绝缘块两侧的金属卡槽分别引出导线,上层硅钢片试样一端与下层硅钢片试样另一端之间通过导线串接测试电源和电流表,上层硅钢片试样另一端与下层硅钢片试样一端之间通过导线串接电压表;步骤五、通过电压表和电流表分别读出上层硅钢片试样与下层硅钢片试样受压区域涂层的电压值V和电流值A,则上层硅钢片试样与下层硅钢片试样在测试区域的层间电阻值R=(V/A)*S,其中S为测试区域面积,层间电阻值R的单位是Ω·mm2。
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