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发明名称
SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
摘要
<p>본 발명은 작업 처리량의 향상에 공헌하며, 대기 분위기에 패턴을 노출시키지 않고 초임계 유체에 의한 처리를 행하는 것이 가능한 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공한다. 기판 처리 장치의 세정조(21)는, 기판(W)을 수용하며, 세정액을 통류시켜 그 기판(W)을 세정하고, 처리 용기(22)는, 이 세정조(21)를 수용하며, 그 기판(W)에 대하여 초임계 유체에 의한 처리를 행한다.</p>
申请公布号
KR101377194(B1)
申请公布日期
2014.03.25
申请号
KR20100058177
申请日期
2010.06.18
申请人
发明人
分类号
H01L21/302
主分类号
H01L21/302
代理机构
代理人
主权项
地址
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