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<p>이동하는 노즐로부터 토출되는 처리액의 유량의 변동을 억제할 수 있는 기술을 제공하는 것으로서, 기판 처리 장치(20)는, 기판(200)을 대략 수평으로 유지하는 기판 유지부(30)와, 기판(200)에 대하여 대략 평행한 주주사 방향을 따라 연장되는 주주사 기구 가이드부(42)와, 주주사 기구 가이드부(42)에 의해 주주사 방향을 따라 이동가능하게 지지된 슬라이더(44)를 가지는 주주사 기구(40)와, 슬라이더(44)에 의해 주주사 방향을 따라 이동가능하게 지지되고, 기판(200)에 도포액을 토출하는 토출부(50)와, 토출부(50)에 접속됨과 더불어 토출부(50)로 도포액을 이끄는 가요성의 도포액 배관(80b)과, 도포액 배관(80b)의 도중의 부분을 지지함과 더불어, 주주사의 반복에 의한 슬라이더(44)의 주기적인 움직임에 추종하여 그 방향이 주기적으로 변화되는 가동 배관 지지부(100)를 구비한다.</p> |
