发明名称 Hochleistungs-Flächenlichtquelle
摘要 Hochleistungs-Flächenlichtquelle zur Durchleuchtung von weitgehend flächigen Objekten, insbesondere für Anwendungen zur Prüfung von Siliziumbauteilen auf Grundlage einer optischen Detektion von Rissen in Bauteilen für opto- und halbleiterelektronische, optische und mechanische Anwendungen, dadurch gekennzeichnet, dass die Flächenlichtquelle in einem lichtdichten Gehäuse mehrere Einzelleuchten aufweist, die derart angeordnet sind, dass die von den Einzelleuchten ausgehenden Strahlengänge in ihrer Gesamtheit vollständig den gesamten Prüfbereich der Flächenlichtquelle beleuchten, wobei sich auf jedem Flächenabschnitt des Leuchtenfeldes maximal zwei Strahlengänge überlagern und wobei der Anteil von Zonen mit einer sich überschneidenden Bestrahlung von zwei verschiedenen Einzelleuchten etwa 17% beträgt.
申请公布号 DE202013009329(U1) 申请公布日期 2014.03.14
申请号 DE20132009329U 申请日期 2013.10.18
申请人 INSTITUT FÜR INNOVATIVE TECHNOLOGIEN, TECHNOLOGIETRANSFER, AUSBILDUNG UND BERUFSBEGLEITENDE WEITERBILDUNG (ITW) E.V. 发明人
分类号 F21S8/00;F21V13/02;G01N21/88 主分类号 F21S8/00
代理机构 代理人
主权项
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