发明名称 |
一种LED外延结构及其应用 |
摘要 |
发明提供了一种LED外延结构,自下而上依次包括:衬底、GaN成核层、GaN缓冲层、n型GaN层、有源层、p型GaN层以及p型接触层;所述有源层具有由至少两对MQW发光层组成,所述MQW发光层包括由AlGaN/n-GaN交替堆叠组成的超晶格量子垒层及由InGaN构成的量子阱层,所述AlGaN/n-GaN超晶格量子垒层对中Al组分值呈线性平稳上升再线性平稳下降趋势,n型杂质浓度值呈线性平稳上升再线性平稳下降趋势。本发明的有益效果主要体现在:可有效提高MQW晶格质量,大幅增加有源层中每个量子阱的电子或空穴的俘获几率,有效降低器件Droop负效应影响,提高LED器件的内量子效率的目的,可很好的应用在高功率器件中,并保持器件的高光效值。 |
申请公布号 |
CN103633209A |
申请公布日期 |
2014.03.12 |
申请号 |
CN201310652175.6 |
申请日期 |
2013.12.06 |
申请人 |
苏州新纳晶光电有限公司 |
发明人 |
南琦 |
分类号 |
H01L33/06(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/06(2010.01)I |
代理机构 |
南京苏科专利代理有限责任公司 32102 |
代理人 |
陆明耀;陈忠辉 |
主权项 |
一种LED外延结构,自下而上依次包括:衬底、GaN成核层、GaN缓冲层、n型GaN层、有源层、p型GaN层以及p型接触层;其特征在于:所述有源层具有由至少两对MQW发光层组成,所述MQW发光层包括由AlGaN/n‑GaN交替堆叠组成的超晶格量子垒层及由InGaN构成的量子阱层,所述AlGaN/n‑GaN超晶格量子垒层对中Al组分值呈线性平稳上升再线性平稳下降趋势,n型杂质浓度值呈线性平稳上升再线性平稳下降趋势。 |
地址 |
215021 江苏省苏州市苏州工业园区苏虹东路388号 |