发明名称 具有低缺陷整体窗的化学机械抛光垫
摘要 一种化学机械抛光垫,其包括抛光层,所述抛光层包括整体窗和抛光表面,所述抛光表面适合用来对选自磁性基片、光学基片和半导体基片的基片进行抛光,所述整体窗的配方在抛光过程中提供了改进的缺陷性能。还提供了一种使用所述化学机械抛光垫对基片进行抛光的方法。
申请公布号 CN102310366B 申请公布日期 2014.03.05
申请号 CN201010231569.0 申请日期 2010.07.08
申请人 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 发明人 M·J·库尔普;S·H·威廉姆斯
分类号 B24D13/14(2006.01)I 主分类号 B24D13/14(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 沙永生;周承泽
主权项 一种化学机械抛光垫,其包括:抛光层,其包括抛光表面和整体窗;所述整体窗在所述抛光层中成为一体;所述整体窗是固化剂与异氰酸酯封端的预聚物多元醇的聚氨酯反应产物;所述固化剂选自4,4’‑亚甲基‑二邻氯苯胺、4,4’‑亚甲基‑二‑(3‑氯‑2,6‑二乙基苯胺);二甲硫基甲苯二胺;二对氨基苯甲酸‑1,3‑丙二醇酯;聚四氢呋喃二对氨基苯甲酸酯;聚四氢呋喃单对氨基苯甲酸酯;聚环氧丙烷二对氨基苯甲酸酯;聚环氧丙烷单对氨基苯甲酸酯;1,2‑二(2‑氨基苯硫基)乙烷;4,4’‑亚甲基‑二苯胺;二乙基甲苯二胺;5‑叔丁基‑2,4‑甲苯二胺;3‑叔丁基‑2,6‑甲苯二胺;5‑叔戊基‑2,4‑甲苯二胺;3‑叔戊基‑2,6‑甲苯二胺;氯代甲苯二胺,以及它们的混合物;所述异氰酸酯封端的预聚物多元醇是多元醇与多官能芳族异氰酸酯的反应产物;所述多元醇选自聚四亚甲基醚二醇;聚亚丙基醚二醇;酯基多元醇;它们的共聚物和混合物;所述多官能芳族异氰酸酯选自2,4‑甲苯二异氰酸酯、2,6‑甲苯二异氰酸酯、4,4'‑二苯基甲烷二异氰酸酯、萘‑1,5‑二异氰酸酯、联甲苯胺二异氰酸酯、对苯二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯和它们的混合物;所述固化剂包含固化剂胺部分,该固化剂胺部分能够与所述异氰酸酯封端的预聚物多元醇中所含的未反应的NCO部分反应,形成所述整体窗;以胺部分与未反应的NCO部分的化学计量比为1:1至1:1.25的用量提供所述固化剂与所述异氰酸酯封端的预聚物多元醇;所述整体窗的孔隙率<0.1体积%;所述整体窗的压缩形变为5‑25%;其中,所述抛光表面适合用来对选自磁性基片、光学基片和半导体基 片的基片进行抛光。
地址 美国特拉华州
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