| 发明名称 |
ZIRCONIUM-CONTAINING PRECURSORS FOR VAPOR DEPOSITION |
| 摘要 |
Disclosed are zirconium-containing precursors and methods of synthesizing the same. The precursors may be used to deposit zirconium oxide, zirconium silicon oxide and zirconium-metal oxide containing layers using vapor deposition methods such as chemical vapor deposition or atomic layer deposition. |
| 申请公布号 |
WO2013177269(A3) |
申请公布日期 |
2014.02.27 |
| 申请号 |
WO2013US42204 |
申请日期 |
2013.05.22 |
| 申请人 |
L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE;PALLEM, VENKATESWARA, R. |
发明人 |
PALLEM, VENKATESWARA, R. |
| 分类号 |
C07F7/00;C07D207/06;C07D211/08 |
主分类号 |
C07F7/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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