发明名称 | 高分辨率高生产量处理柔性基底导电图形的系统和方法 | ||
摘要 | 提出了一种高分辨率高生产量处理柔性基底导电图形的系统和方法。为了适当对准,对准标记被加入至多层基底的每一层中。光学对准标记被应用至每个基底层的表面上。对准标记组被布置在每个基底层的局部区域中。对准标记的每个局部组被称为对准目标区域。所述第一基底层上的第一对准目标区域之内的所述对准标记与所述第二基底层上的第二对准目标区域之内的相应的所述对准标记相对准。在一些实施例中,所述第一对准目标区域包括被配置用于手工对准的对准标记和被配置用于机器对准的另一对准标记。所述第二对准目标区域具有相对应的手工对准标记和机器对准标记。 | ||
申请公布号 | CN103577010A | 申请公布日期 | 2014.02.12 |
申请号 | CN201310292308.3 | 申请日期 | 2013.07.10 |
申请人 | 伟创力国际美国公司 | 发明人 | G·默里;K·科里根;E·玛哈格努尔 |
分类号 | G06F3/044(2006.01)I | 主分类号 | G06F3/044(2006.01)I |
代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 王茂华 |
主权项 | 一种用于对准多基底层的对准反馈装置,所述装置包括:a.第一基底层,具有形成在表面上的对准目标区域的第一部分,其中所述对准目标区域的所述第一部分包括第一手工对准标记和第一机器对准标记;以及b.第二基底层,具有形成在表面上的所述对准目标区域的第二部分,所述第二基底层耦合于所述第一基底层,其中所述对准目标区域的所述第二部分包括第二手工对准标记和第二机器对准标记,其中当所述第一基底层和所述第二基底层彼此适当对准时,所述第一手工对准标记与所述第二手工对准标记对准,并且所述第一机器对准标记与所述第二机器对准标记对准。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |