并列单基板处理系统

摘要

一种用于对排列在流体中的一个或更多个基板表面进行流体处理的系统。该系统具有：处理部分，其带有框架并且具有在不接触基板表面的情况下处理基板表面的多个处理元件；以及基板保持件组件，其具有多个基板保持件并且将一个或更多个基板作为单元在处理部分与另一位置之间传送。基板保持件组件和基板保持件可移除地联接至处理部分框架，每个基板保持件构造成保持基板中的至少一个。处理部分框架具有对准特征，对准特征设置成使得对准特征与基板保持件组件的每个基板保持件交接，并且在每个基板保持件和处理部分框架相应地联接时相对于处理部分的预定特征以可重复对准的方式定位每个基板保持件。

主权项

一种用于对排列在流体中的一个或更多个基板表面进行流体处理的系统，所述系统包括：处理部分，所述处理部分带有框架并且具有多个处理元件，以在不接触所述基板表面的情况下处理所述基板表面；以及基板保持件组件，所述基板保持件组件具有多个基板保持件并且构造成用于将一个或更多个基板作为单元在所述处理部分与另一位置之间传送，所述基板保持件中的每一个和所述基板保持件组件被构造成用于可移除地联接至处理部分框架，所述基板保持件组件中的每个基板保持件构造成保持所述基板中的至少一个；所述处理部分框架具有对准特征，所述对准特征设置成使得在使所述基板保持件组件与所述处理部分框架联接时，所述对准特征与所述基板保持件组件的每个基板保持件交接，并且在每个基板保持件和所述处理部分框架相应地联接时相对于所述处理部分的预定特征以可重复对准的方式定位每个基板保持件。