可高度稀释的抛光浆体

摘要

本揭示提供一种使用于化学机械抛光浆体中的浓缩物；及一种将该浓缩物稀释至使用浆体的点之方法。该浓缩物包含研磨物质、错合剂及腐蚀抑制剂，及该浓缩物以水及氧化剂稀释。这些组份的存在量能让该浓缩物可以非常高稀释比率稀释，而不影响抛光性能。