发明名称 具有高光穿透度之透明导电膜及其制备方法
摘要 本发明系关于一种透明导电膜,其包含厚度具有差异的导电层,可使透明导电膜在维持导电性不变的情况下提升其光穿透度。;本发明亦关于一种制备上述透明导电膜之方法。
申请公布号 TWI425530 申请公布日期 2014.02.01
申请号 TW099133392 申请日期 2010.09.30
申请人 远东新世纪股份有限公司 台北市大安区敦化南路2段207号36楼 发明人 邱大任;洪维泽;林士越;陈秋芳;陈姿颖
分类号 H01B5/14;H01B13/00 主分类号 H01B5/14
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 台北市大安区敦化南路2段207号36楼