发明名称 半导体器件的反熔丝、其制造方法以及半导体组件和系统
摘要 本发明公开一种半导体器件的反熔丝、其制造方法以及半导体组件和系统。该反熔丝基于场氮化物阱(FNT)且包括:第一有源柱体,其包括第一接面;第二有源柱体,其包括第二接面;选择线,其埋入在第一有源柱体与第二有源柱体之间;以及阱层,其根据施加至所述第一接面、所述第二接面和所述选择线的各个电压,捕获少数载流子,从而将所述第一接面和所述第二接面电连接起来。结果,可以利用上述结构来高度地集成熔丝,并可以容易地实现熔丝的编程。
申请公布号 CN103545290A 申请公布日期 2014.01.29
申请号 CN201310206394.1 申请日期 2013.05.29
申请人 爱思开海力士有限公司 发明人 李殷星
分类号 H01L23/525(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I 主分类号 H01L23/525(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 顾红霞;何胜勇
主权项 一种半导体器件的反熔丝,包括:第一有源柱体,其包括第一接面;第二有源柱体,其包括第二接面;选择线,其设置在所述第一有源柱体与所述第二有源柱体之间;以及阱层,其根据施加至所述第一接面、所述第二接面和所述选择线的各个电压,捕获少数载流子,从而将所述第一接面和所述第二接面电连接起来。
地址 韩国京畿道