发明名称 |
半导体器件的反熔丝、其制造方法以及半导体组件和系统 |
摘要 |
本发明公开一种半导体器件的反熔丝、其制造方法以及半导体组件和系统。该反熔丝基于场氮化物阱(FNT)且包括:第一有源柱体,其包括第一接面;第二有源柱体,其包括第二接面;选择线,其埋入在第一有源柱体与第二有源柱体之间;以及阱层,其根据施加至所述第一接面、所述第二接面和所述选择线的各个电压,捕获少数载流子,从而将所述第一接面和所述第二接面电连接起来。结果,可以利用上述结构来高度地集成熔丝,并可以容易地实现熔丝的编程。 |
申请公布号 |
CN103545290A |
申请公布日期 |
2014.01.29 |
申请号 |
CN201310206394.1 |
申请日期 |
2013.05.29 |
申请人 |
爱思开海力士有限公司 |
发明人 |
李殷星 |
分类号 |
H01L23/525(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/525(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
顾红霞;何胜勇 |
主权项 |
一种半导体器件的反熔丝,包括:第一有源柱体,其包括第一接面;第二有源柱体,其包括第二接面;选择线,其设置在所述第一有源柱体与所述第二有源柱体之间;以及阱层,其根据施加至所述第一接面、所述第二接面和所述选择线的各个电压,捕获少数载流子,从而将所述第一接面和所述第二接面电连接起来。 |
地址 |
韩国京畿道 |