发明名称 双组分显影方法和所用的显影剂
摘要 本发明提供一种双组分显影方法和所用的显影剂,所述显影方法包括使用刮片调节承载在显影剂承载体上的双组分显影剂;和用附着在显影剂承载体上的经调节的双组分显影剂显影图像承载体上的潜像,其中所述双组分显影剂包括具有3.0~6.0μm的体均粒径的粉碎调色剂,该粉碎调色剂包括不少于30个数%的量的具有不超过4.0μm粒径的颗粒、和包括不大于10个数%的量的具有不超过2.0μm粒径的颗粒,和其中所述刮片具有在相对于显影剂承载体的旋转方向的上游侧的调节显影剂的表面,该表面具有不超过0.2μm的表面粗糙度。
申请公布号 CN102129185B 申请公布日期 2014.01.29
申请号 CN201110006413.7 申请日期 2011.01.13
申请人 株式会社理光 发明人 青木三夫;岸田宏之
分类号 G03G9/08(2006.01)I;G03G15/08(2006.01)I;G03G21/18(2006.01)I;G03G21/12(2006.01)I 主分类号 G03G9/08(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 王冉
主权项 双组分显影方法,包括:使用刮片调节部件调节承载在显影剂承载体上的双组分显影剂;和用附着在显影剂承载体上的经调节的双组分显影剂显影图像承载体上的潜像,其中所述双组分显影剂包括具有3.0~6.0μm的体均粒径的粉碎调色剂,该粉碎调色剂包括不少于30个数%的量的具有不超过4.0μm粒径的颗粒、和包括不大于10个数%的量的具有不超过2.0μm粒径的颗粒,和其中刮片具有在相对于显影剂承载体的旋转方向的上游侧的调节显影剂的表面,该表面具有不超过0.2μm的表面粗糙度Ra。
地址 日本东京都