成膜装置的运转方法及成膜装置

摘要

本发明提供成膜装置的运转方法和成膜装置。该方法用于运转成膜装置，该成膜装置用于多次重复依次向基板供给相互不同的处理气体的循环来层叠反应产物的层而获得薄膜，该成膜装置包括：真空容器；旋转台；第1处理气体供给部；第2处理气体供给部；分离区域；第1真空排气口，其用于主要排出上述第1处理气体；第2真空排气口，用于主要排出上述第2处理气体；以及清洁气体供给部，其供给用于对上述旋转台进行清洁的清洁气体；其中，该成膜装置的运转方法包括清洁工序，在该清洁工序中，使自上述第1真空排气口进行的排气停止，一边从上述第2真空排气口进行真空排气，一边从上述清洁气体供给部向真空容器内供给清洁气体。

主权项

一种成膜装置的运转方法，该方法用于运转成膜装置，该成膜装置用于多次重复依次向基板供给相互不同的处理气体的循环来层叠反应产物的层而获得薄膜，该成膜装置包括：真空容器；旋转台，其配置在上述真空容器内，用于载置基板并使基板公转；第1处理气体供给部，其用于向基板供给第1处理气体；第2处理气体供给部，其以在上述旋转台的旋转方向上与上述第1处理气体供给部分开的方式设置，用于向基板供给第2处理气体；分离区域，其在成膜处理时的上述旋转台的旋转方向上设置在上述第1处理气体供给部与第2处理气体供给部之间，被供给用于使上述第1处理气体和上述第2处理气体分离的分离气体；第1真空排气口，其用于主要排出上述第1处理气体；第2真空排气口，其以在上述旋转台的旋转方向上与上述第1真空排气口分开的方式设置，用于主要排出上述第2处理气体；以及清洁气体供给部，其供给用于对上述旋转台进行清洁的清洁气体，其中，该成膜装置的运转方法包括清洁工序，在该清洁工序中，使自上述第1真空排气口进行的排气停止，一边从上述第2真空排气口进行真空排气，一边从上述清洁气体供给部向真空容器内供给清洁气体。