| 摘要 |
本发明涉及一种带扩散解离区域的等离子体处理装置，用于生成引入气体的电感耦合等离子体与基片反应，其特征在于，包含真空的处理腔室；设置在处理腔室的顶板上方且与处理腔室贯通连接的进气通道；进气通道上设置有第一线圈；进气通道的内部包含一第一扩散解离区域，其中生成有引入气体的电感耦合等离子体；处理腔室的顶板上设置有第二线圈。由于设置第一、第二线圈，使等离子体气体分子先后在第一、第二扩散解离区域经过两次电子轰击，被充分解离；更将垂直贯通的进气通道加宽加长，并在底部设为倒漏斗或喇叭状，且与基片对应设置，使经过轰击解离的等离子体，能被快速引到基片表面，增加基片表面的等离子体密度均匀性，以缩短处理反应的时间。 |
