发明名称 Verfahren und Vorrichtung zum Auftragen von flussmittelfreiem Lot auf ein Substrat.
摘要 Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Auftragen von flussmittelfreiem Lot auf Substratplätze eines Substrats (1). Die Vorrichtung weist einen Dispenserkopf (2) auf, der einen mit Ultraschall beaufschlagbaren Stempel (5) und eine Drahtzuführung (6) umfasst. Der Stempel (5) hat eine Arbeitsfläche (11) mit einer zu einer Seitenfläche (13) des Stempels (5) hin offenen Ausnehmung (12). Das Verfahren umfasst folgende Schritte: A) Bewegen des Dispenserkopfs (2) an eine vorbestimmte Position oberhalb des nächsten Substratplatzes, auf dem Lot aufzutragen ist, B) Absenken des Stempels (5), bis die Arbeitsfläche (11) des Stempels (5) den Substratplatz berührt, C) Aufbringen von flussmittelfreiem Lot auf den Substratplatz durch: C1) Vorschieben des Lotdrahts (8), bis der Lotdraht (8) den Substratplatz berührt, derart, dass die Spitze des Lotdrahts (8) den Substratplatz innerhalb der Ausnehmung (12) des Stempels (5) berührt, C2) weiter Vorschieben von Lotdraht (8), um eine vorbestimmte Menge Lot zu schmelzen, und C3) Zurückziehen des Lotdrahts (8), D) Bewegen des Dispenserkopfs (2) entlang einer vorbestimmten Bahn, um das Lot auf dem Substratplatz zu verteilen, und gleichzeitig Beaufschlagen des Stempels (5) mit Ultraschall, und E) Abheben des Stempels (5) vom Substratplatz, wobei der Schritt D entweder nach dem Schritt C3 durchgeführt wird oder bereits während des Schrittes C2 beginnt.
申请公布号 CH706738(A2) 申请公布日期 2014.01.15
申请号 CH20130001025 申请日期 2013.05.29
申请人 BESI SWITZERLAND AG 发明人 HEINRICH BERCHTOLD;RENE BERTSCHART
分类号 B23K3/06 主分类号 B23K3/06
代理机构 代理人
主权项
地址