发明名称 包含磁铁之微影装置、在微影装置中之磁铁之保护方法和器件制造方法
摘要 本发明揭示一种微影装置,该微影装置包括一包含于一保护外壳中之磁铁,该保护外壳经配置以保护该磁铁免于接触一含H2气体或含H原子气体。该外壳可进一步含有一集氢剂,诸如,一磁体表面改质气体或一非含氢气体。可提供一非含氢气体流动,或可经由该保护外壳之至少一部分而提供一非集氢剂气体流动。
申请公布号 TWI422984 申请公布日期 2014.01.11
申请号 TW098105515 申请日期 2009.02.20
申请人 ASML荷兰公司 荷兰 发明人 姆尔司 乔和那司 哈伯司 乔瑟芬那;可斯特 诺柏特斯 贝尼迪特斯;洛卜史塔 艾瑞克 罗勒夫;史密兹 马汀 法兰斯 派瑞;坎班 丹东尼斯 帝朵勒 怀慕斯
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 荷兰