发明名称 |
包含磁铁之微影装置、在微影装置中之磁铁之保护方法和器件制造方法 |
摘要 |
本发明揭示一种微影装置,该微影装置包括一包含于一保护外壳中之磁铁,该保护外壳经配置以保护该磁铁免于接触一含H2气体或含H原子气体。该外壳可进一步含有一集氢剂,诸如,一磁体表面改质气体或一非含氢气体。可提供一非含氢气体流动,或可经由该保护外壳之至少一部分而提供一非集氢剂气体流动。 |
申请公布号 |
TWI422984 |
申请公布日期 |
2014.01.11 |
申请号 |
TW098105515 |
申请日期 |
2009.02.20 |
申请人 |
ASML荷兰公司 荷兰 |
发明人 |
姆尔司 乔和那司 哈伯司 乔瑟芬那;可斯特 诺柏特斯 贝尼迪特斯;洛卜史塔 艾瑞克 罗勒夫;史密兹 马汀 法兰斯 派瑞;坎班 丹东尼斯 帝朵勒 怀慕斯 |
分类号 |
G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |